从细分设备来看,今年1-11月中国产化率大于50%的有去胶、清洗、刻蚀设备,国产化率在20%-30%的有薄膜沉积、涂胶显影、CMP、热处理设备,国产化率小于20%的有量测、离子注入、光刻设备,国产化率仍有较大空间。
全球半导体产业向中国大陆转移,国内晶圆厂商的大幅扩产,极大地拉动国内半导体设备需求,国内半导体设备厂商有望迎来业绩加速提升阶段。
从细分设备来看,今年1-11月中国产化率大于50%的有去胶、清洗、刻蚀设备,国产化率在20%-30%的有薄膜沉积、涂胶显影、CMP、热处理设备,国产化率小于20%的有量测、离子注入、光刻设备,国产化率仍有较大空间。
全球半导体产业向中国大陆转移,国内晶圆厂商的大幅扩产,极大地拉动国内半导体设备需求,国内半导体设备厂商有望迎来业绩加速提升阶段。